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洁净烤箱

洁净烤箱

适用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;洁净无尘烤箱还可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
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产品详情

设备简介
洁净烤箱主要通过空气过滤器来净化环境,避免空气中的细小颗粒物进去箱内。箱内空气封闭自循环,经100级耐高温高效空气过滤器反复过滤,使工作室内处于无尘状态。洁净烤箱主要适用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。

设备特点
1、结构组成:由箱体部分、电器控制柜、电加热及风道循环系统组装而成,结构合理;
2、密封性设计:全周氩焊,采用耐高温硅橡胶无尘密封条隔热,确保密封性和洁净度;
3、外部防尘处理:外材质为SPCC钢板经过粉体喷塑,耐磨不掉尘渣;
4、高效过滤器:HEPA过滤网构造洁净室,99.99%有效过滤,洁净度达到等级100级;
5、节能:保温材质为高密度纤维,保温节能;
6、分层结构设计:内箱层板高低可调,可自由取出;
7、温控仪表:自动控制温度,恒温及时间控制,设有超温自动停电及报警电路,控制可靠,使用安全;
8、电器配件:全部采用一线品牌,PID演算的温控系统和超温保护装置,智能恒温,温差小,适用不同产品的长、短烘烤。

选配组件
1、程序控温:可配置程序型温度控制器,实现多组程序控温。
2、测温功能:多点测温查看及记录功能。
3、风门调节:可加装风量调节装置,亦可实现风门开关程序控制。
4、温度记录仪:可配置多通道温度记录仪,打印机或RS485接口,监控记录温度变化状况。

设备参数

型号
GZ-J100-ES-02
温度范围
常温—300℃
温度精度
±1℃
温度均匀性
±2%(空载)
加热功率
6KW
容积
350L
工作尺寸(H*W*D)
910*620*620(mm)
外部尺寸(H*W*D)
1750*855*1030(mm)
过滤器
HEPA耐高温高效过滤器(CLASS 100)
含氧量范围
1%-100ppm(选配)
升温速率
升温速率可调,空载常温升至175℃大约30分钟


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